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　　证券之星消息，根据企查查数据显示拓荆科技（688072）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“反应腔内等离子体特性的检测系统及半导体器件的加工设备”，专利申请号为CN3.2，授权日为2024年6月7日。

　　专利摘要：本实用新型提供了一种反应腔内等离子体特性的检测系统以及一种半导体器件的加工设备。所述反应腔内等离子体特性的检测系统包括：采样通路，用于采集所述反应腔的顶盖的第一电压信号，其中，所述顶盖被用作在所述反应腔内激发等离子体的射频电极，并接触交流驱动的加热丝；以及去耦合模块，连接所述采样通路，以获得所述第一电压信号，用于滤除所述第一电压信号中的交流噪声，以输出指示所述反应腔内的等离子体特性的第二电压信号。本实用新型可以滤除反应腔顶盖电压中的交流噪声，以提升等离子体特性检测结果的准确性。

　　今年以来拓荆科技新获得专利授权7个，较去年同期减少了75.86%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了5.76亿元，同比增52.07%。

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